真空均质乳化机的基本结构
本设备是专门针对化妆品及制药行业生产小批量产品,机经常生产多种产品而设计；是美容行业机型,其大特点为：下置均质机,可加大功率。到年度的物料特别有效。主锅盖能自由升降,能*清洗锅体,可倾式出料,能保证出料,减少浪费,是中小型企业的选择。适应于大容积生产的产品。

性能及特点：
◆复合刮板搅拌桨,适合各种复杂配方,达到优化能效；
◆聚四氟乙烯刮板,随时迎合搅拌槽之形体,刮净锅壁粘料；

◆均质机安装在锅底部,可加大电动机功率,更*,更有力。在少量生产时,亦可充分发挥均质效果；

◆强力平衡式等规曲线的转子配以相应结构的定子,实现流体高能剪切、研磨、离心、从而保证膏体细腻、光滑；锅体及管道表面镜面抛光300EMSH（卫生级）,符合日化及GMP规范。

◆客户可选择变频调速均质机,转速达4500转/分钟。

优点

机组采用上部同轴三重型搅拌器,液压升降开盖,快速均质搅拌器转速：0—3500r/min（变频调速）、慢速刮壁搅拌器转速：0—63r/min（变频调速）、均质器采用高剪切涡流式乳化搅拌机,慢速刮壁搅拌自动紧贴锅底及锅壁。采用真空吸料,特别对粉体物料利用真空吸入避免粉尘飞扬。整个工序在真空条件下进行,防止物料在高速搅拌后产生气泡,能达到卫生无菌要求。本系统配有CIP清洗系统、容器与物料接触部分采用SUS316L材料制造、内表面镜面抛光300EMSH(卫生级）为了确保控制部分的稳定、真空泵采用纳西姆（原西门子）公司产品、按钮采用日本富士公司产品、变频器采用日本松下电工、电器控制部分采用西门子公司产品。本机组*符合GMP要求制造,是目前*、理想的膏、霜生产设备。

真空均质乳化机的基本结构