详细介绍
产品名称:硅片烧结回转窑 气氛回转炉
一、概述
硅片烧结回转炉主要用于CVD实验,也运用于冶金,玻璃,热处理,锂电正负极材料,新能源,磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的设备。
旋转管式炉和传统的马弗炉相比,它的优点在于炉管是转动的,物样在加工过程中,不停地翻动。因此加工质量好,效率高,并且取得的实验数据较接近于生产状态。由于可以连续出料,所以加工大量物样时,更能显示其*性。另外旋转回转窑炉管的两端采取了密封措施,所以在使用过程中还可通入氧化,还原等必要的气氛。
二、型号规格
设备型号 | 炉膛尺寸(mm) | 温度(℃) | 额定功率(KW) | 电压(V) |
BLXG系列 | φ120*2000-2500 | 1100-1600 | 8-16 | 380 |
BLXG系列 | φ160*2500-3000 | 1100-1600 | 12-30 | 380 |
BLXG系列 | φ220*2500-4000 | 1100-1600 | 15-40 | 380 |
BLXG系列 | φ270*2500-5000 | 1100-1600 | 20-50 | 380 |
BLXG系列 | φ320*2500-6000 | 1100-1600 | 30-60 | 380 |
BLXG系列 | φ370*3000-7000 | 1100 | 30-70 | 380 |
BLXG系列 | φ400*3000-8000 | 1100 | 40-80 | 380 |
BLXG系列 | φ450*4000-9000 | 1100 | 50-100 | 380 |
BLXG系列 | φ500*5000-9000 | 1100 | 60-110 | 380 |
BLXG系列 | φ550*5000-9000 | 1100 | 70-120 | 380 |
BLXG系列 | φ600*5000-10000 | 1100 | 80-160 | 380 |
BLXG系列 | φ650*5000-12000 | 1100 | 100-240 | 380 |
BLXG系列 | φ700*6000-12000 | 1100 | 140-280 | 380 |
注:硅片烧结回转窑 气氛回转炉其他型号规格可根据用户要求另行设计,价格仅供参考,欢迎咨询详谈。