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半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

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参考价 158384
订货量 1
具体成交价以合同协议为准
  • 型号FLT-002
  • 品牌冠亚制冷
  • 厂商性质生产商
  • 所在地无锡市

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更新时间:2023-12-20 13:28:17浏览次数:280

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产品简介

产地 国产 产品大小 小型
产品新旧 全新 结构类型 半封闭式,立式
结构类型 半封闭式,立式 温度 低温冷水机
【无锡冠亚】半导体控温解决方案主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。半导体循环冷水机Chiller 分析装置制冷机

详细介绍


无锡冠亚恒温制冷技术有限公司的半导体控温解决方案

主要产品包括半导体专⽤温控设备、射流式⾼低温冲击测试机和半导体⽤⼯艺废⽓处理装置等⽤设备,

⼴泛应⽤于半导体、LED、LCD、太阳能光伏等领域。


半导体行业主营控温产品:


半导体专温控设备

射流式⾼低温冲击测试机

半导体专用温控设备chiller

Chiller气体降温控温系统

Chiller直冷型

循环风控温装置

半导体⾼低温测试设备

电⼦设备⾼温低温恒温测试冷热源

射流式高低温冲击测试机

快速温变控温卡盘

数据中心液冷解决方案




型号 FLT-002 FLT-003 FLT-004 FLT-006 FLT-008 FLT-010 FLT-015
FLT-002W FLT-003W FLT-004W FLT-006W FLT-008W FLT-010W FLT-015W
温度范围 5℃~40℃
控温精度 ±0.1℃
流量控制 10~25L/min5bar max 15~45L/min6bar max 25~75L/min6bar max
制冷量at10℃ 6kw 8kw 10kw 15 kw 20kw 25kw 40kw
内循环液容积 4L 5L 6L 8L 10L 12L 20L
膨胀罐容积 10L 10L 15L 15L 20L 25L 35L
制冷剂 R410A
载冷剂 硅油、氟化液、乙二醇水溶液、DI等(DI温度需要控制10℃以上)
进出接口 ZG1/2 ZG1/2 ZG3/4 ZG3/4 ZG3/4 ZG1 ZG1
冷却水口 ZG1/2 ZG1/2 ZG3/4 ZG1 ZG1 ZG1 ZG1 1/8
冷却水流量at20℃ 1.5m³/h 2m³/h 2.5m³/h 4m³/h 4.5m³/h 5.6m³/h 9m³/h
电源380V 3.5kW 4kW 5.5kW 7kW 9.5kW 12kW 16kW
温度扩展 通过增加电加热器,扩展-25℃~80℃




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随着半导体行业技术的发展,半导体行业对设备的要求也越来越高。其中,多晶硅刻蚀双通道chiller冷却设备是半导体制造过程中的一种设备,在半导体制造过程中,需要将芯片冷却到低的温度,以确保其性能和稳定性。

其中,多晶硅刻蚀双通道chiller是一种常见的半导体冷却设备。它通过将冷却剂循环使用,将芯片冷却到所需的温度范围。多晶硅刻蚀双通道chiller的主要功能是提供稳定的温度控制,以确保芯片在制造过程中的稳定性和可靠性。

在半导体行业中,多晶硅刻蚀双通道chiller的应用非常广泛。它不仅用于制造芯片,还用于制造集成电路、光电子器件和其他半导体器件。此外,多晶硅刻蚀双通道chiller还可以用于其他领域,如新能源电池电机中进行高低温测试用等。

在半导体制造过程中,多晶硅刻蚀双通道chiller不仅可以提供稳定的温度控制,还可以减少热噪声和热膨胀等效应,从而提高芯片的性能和稳定性。此外,多晶硅刻蚀双通道chiller还可以提高生产效率,减少生产成本。

在选择半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller时,需要考虑多个因素。需要确定所需的冷却功率和温度范围。其次,需要考虑设备的可靠性、稳定性和易用性。另外,需要考虑设备的成本和维护成本。

总之,半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller是半导体制造过程中的一部分。它可以提供稳定的温度控制,还可以提高生产效率,减少生产成本。因此,选择合适的半导体行业用多晶硅刻蚀双通道chiller对于半导体制造企业来说有一定影响。



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