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石墨烯改性聚酰亚胺聚合物高分子研磨分散机

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具体成交价以合同协议为准
  • 型号CMSD2000
  • 品牌其他品牌
  • 厂商性质生产商
  • 所在地上海

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更新时间:2018-08-13 14:51:33浏览次数:948

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产品简介

产地 进口 产品新旧 全新
石墨烯改性聚酰亚胺聚合物高分子高速剪切研磨分散机,聚亚酰胺石墨烯分散设备,石墨烯聚酰亚胺分散机,石墨烯聚酰亚胺研磨机,石墨烯聚酰亚胺高速分散设备

详细介绍

石墨烯改性聚酰亚胺聚合物高分子高速剪切研磨分散机,聚亚酰胺石墨烯分散设备,石墨烯聚酰亚胺分散机,石墨烯聚酰亚胺研磨机,石墨烯聚酰亚胺高速分散设备是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎详情请接洽上海依肯,段,()

分散头
分散头
石墨烯分散需要解决六大基本问题
Ø  石墨烯分散的挑战性首先源于对石墨烯深度分散的必然要求,将石墨烯分散到单片或初级粒子状态;
Ø  源于石墨烯对通过化学改性实现分散这一手段的低容忍性甚至抵触性;化学改性,势必干扰或一定程度上破坏π-π的完整性,从而降低或失去本征态石墨烯的优异性能;
Ø  源于石墨烯本身既不亲水又不亲油的结构特征;一般的分散剂分子又较难与石墨烯形成较强的物理吸附作用,所以使用表面活性分散石墨烯的物理手段也将受限;
Ø  源于石墨烯的π-π结构和强的范德华力,使石墨烯极易团聚,而且团聚体难以再分开;
Ø  还源于石墨烯*的长径比和比表面积;
Ø  石墨烯的分散还面临着实际生产操作性方面的难题。例如,4%浓度的水型石墨烯浆料已是膏态,不具有流动性,这为生产过程中物料传输、分散和化学反应造成了困难。

石墨烯改性聚酰亚胺聚合物高分子高速剪切研磨分散机,聚亚酰胺石墨烯分散设备,石墨烯聚酰亚胺分散机,石墨烯聚酰亚胺研磨机,石墨烯聚酰亚胺高速分散设备由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

*级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

CMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

CMD 2000/4

700

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

80000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为"水"的测定数据。
2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。
3 如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4 本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准

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