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公司动态

安达铝镁加混悬液胶体磨/安达铝镁加混悬液均质机在山西验收完成

阅读:651          发布时间:2017-6-27

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安达铝镁加悬浮液是一种中和胃酸药,用于治疗胃及十二指肠溃疡或胃酸过多引起的反酸、烧心、
疼痛、腹胀、嗳气等症状,是一种白色粘稠混合液。对于混悬液药剂的制备国家有严格的规定:药物本身的化学性质应稳定,在使用或贮存期间含量应符合要求;混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求;粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象,轻摇后应迅速均匀分散;混悬剂应有一定的粘度要求;外用混悬剂应容易涂布等。

增加混悬液的动力稳定性的主要方法是:
①尽量减小微粒半径,以减小沉降速度
②增加分散介质的粘度,以减小固体微粒与分散介质间的密度差,这就要向混悬液中加入高分子助悬液,在增加介质粘度的同时,也减小了微粒与分散介质之间的密度差,同时微粒吸附助悬液分子而增加亲水性。混悬液中的微粒大小是不均匀的,大的微粒总是迅速沉降,细小微粒沉降速度很慢,细小微粒由于布朗运动,可长时间悬浮在介质中,使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时,应使混悬微粒有适当的分散度,粒度均匀,以减小微粒的沉降速度,使混悬液处于稳定状态。

传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨,转速只有3000rpm,生产出来的悬浮液颗粒较粗,静置一段时间容易产生絮凝,影响药效和使用,为此有医药厂家在考察了国内的设备之后,放弃了具有极度价格优势的国内设备,来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM,这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍,研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍,这样研磨的细度更小,效果更好)

混悬液胶体磨CM2000系列的特点:
①定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
齿列的深度:从开始的2.7mm 到末端的0.7mm,范围比较大,范围越大,处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿,每个磨头的沟槽深度不一样,并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
一、转速和剪切速率:

IKN胶体磨,可选择德国机械密封,转速可以达到15000转

F=23/0.7X1000=32857S-1

F=40/0.7/X1000=57142S-1

国内胶体磨,可选择机械密封一般3000转,大约在14293-215440S-1

通过转速比较可知,这是乳粉碎研磨的重要因素,相当于前者是后者的2-3倍。

二、胶体磨头和间距:

IKN胶体磨,可以选择六种不同的模块头,实现多种功能,如三级乳化模块,超高速模块,CM胶体模块,CMO胶体模块,批次粉液液混合模块,连续粉液混合模块,间距可调,可实现1-10微米小粒径材料加工。

国内胶体磨,只有一种模块头,粒径细度有限,100微米以下较困难,重复性差。

三、机械密封:

IKN胶体磨,双机械密封,易于清洗,将泄漏降至***低,可24小时不停运转。

国内胶体磨,单机械密封或轴封,泄漏故障率高,产品泄漏进入马达,造成马达烧毁。

四、清洗:

IKN胶体磨,立式,皮带驱动,易于维护,可有效保护马达及齿轮箱,防止损坏,符合流体流动原理,具有CIP/SIP在线清洗,在线杀菌功能,无需拆卸,机器设计*,立式结构符合流体原理,清洗更简便。

国内胶体磨,卧式或立式(马达一体式),轴承部分受力较大,易于损坏,维护保养复杂,通常情况,需要拆卸机器进行清洗。

混悬液胶体磨CM2000系列设备选型表


型号 流量L/H 输出转速rpm 线速度m/s 马达功率KW 出/入口连接
CM2000/4 700 9,000 23 2.2 DN25/DN15
CM2000/5 3,000 6,000 23 7.5 DN40/DN32
CM2000/10 8,000 4,200 23 15 DN50/DN50
CM2000/20 20,000 2,850 23 37 DN80/DN65
CM2000/30 40,000 1,420 23 55 DN150/DN125
CM2000/50 80,000 1,100 23 110 DN200/DN150

1、表中上限处理量是指介质为"水"的测定数据。
2、处理量取决于物料的粘度,稠度和***终产品的要求。
3、如高温,高压,易燃易爆,腐蚀性等工况,必须提供准确的参数,以便选型和定制。
4、本表的数据因技术改动,定制而不符,正确的参数以提供的实物为准。混悬液胶体磨,口服混悬液安达铝镁加混悬液胶体磨,胶体磨,外用混悬液胶体磨,注射混悬液胶体磨,阿苯达唑混悬液胶体磨,布地奈德混悬液胶体磨,布洛芬混悬液胶体磨,蒙脱石混悬液胶体磨,多潘立酮混悬液胶体磨,磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨

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