peav
next
真空乳化机设备(平台型)
主要组成系统
真空乳化机主要由水相锅、油相锅、乳化搅拌主锅、真空系统、升降 系统(可选)、电器控制系统(可选用PLC)、操作平台等组成。
特点
料锅盖为自动升降式,水、油锅中的物料通过输送管道可在真空状态下直接进入乳化锅,出料方式为乳化锅翻转式以及锅底阀放料式等,通过电热管对锅夹层内的导热介质进行加热来实现对物料的加热,加热温度任意设定,自动控制。在夹层内接入冷却液即可对物料进行冷却,操作简单、方便、夹层外设有保温层。均质系统和搅拌系统可分开使用,也可同时使用。物料的微粒化、乳化、混合、调匀、分散等可于短时间内完成。与物料接触部分采用优质不锈钢(常用304,316L)内表面镜面抛光,真空搅拌装置卫生清洁,采用符合GMP规范的卫生标准制造,是客户理想的膏霜生产设备。
工作原理:
物料先在水锅、油锅内加热、搅拌混合后,由真空泵吸入乳化锅内,通过乳化锅内的刮壁搅拌框、中心搅拌桨的双向剪断、压缩、折叠,使其混合向下流往锅体下方的均质器处,均质器转子高速旋转所产生的高切线速度和高频机械效应带来的强劲动能,使物料在定、转子狭窄的间隙中受到强烈的机械及液力剪切、离心挤压、液层摩擦、撞击撕裂和湍流等综合作用,物料的微粒化、乳化、混合、调匀、分散等于短时间内完成。而使不相溶的固相、液相、气相在相应成熟工艺的作用下,瞬间均匀精细的分散乳化,最终得到稳定的高品质产品。
乳化锅内可以抽真空,将物料在搅拌过程中产生的气泡及时抽走。
整机与物料接触部位采用优质SUS316L材料制造,内表面镜面抛光,真空搅拌装置卫生清洁,符合GMP卫生标准。