混床设备

离子交换混床为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为 10-18MΩ/CM(25℃), 二氧化硅含量（SiO2）0.02mg/L 。混床分为单、双床、抛光床,双床可一用一备,（不影响出产用水的连续性）；可串联使用,以进步产水水质,有效利用树脂的交换容量；当出产用水量大时,可并联使用,运行相称灵活、利便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。混床是混合离子交换柱的简称,是针对离子交换技术所设计的设备。......

离子交换混床为深度脱盐设备,用于制造高纯水,产水电阻率为 10-18MΩ/CM(25℃), 二氧化硅含量（SiO2）≤0.02mg/L 。混床分为单、双床、抛光床,双床可一用一备,（不影响出产用水的连续性）；可串联使用,以进步产水水质,有效利用树脂的交换容量；当出产用水量大时,可并联使用,运行相称灵活、利便。出水电导率由高精度电阻率仪监控。

混床是混合离子交换柱的简称,是针对离子交换技术所设计的设备。所谓混床,就是把一定比例的阳、阴离子交换树脂混合装填于统一交换装置中,对流体中的离子进行交换、脱除。因为阳树脂的比重比阴树脂大,所以在混床内阴树脂在上阳树脂在下。一般阳、阴树脂装填的比例为1：2,也有装填比例为1：1.5的,可按不同树脂酌情考虑选择。　混床也分为体内同步再生式混床和体外再生式混床。同步再生式混床在运行及整个再生过程均在混床内进行,再生时树脂不移出设备以外,且阳、阴树脂同时再生,因此所需附属设备少,操纵简便,具有以下长处：

(1) 出水水质优良,出水pH值接近中性。

(2) 出水水质不乱,短时间运行前提变化（如进水水质或组分、运行流速等）对混床出水水质影响不大。

(3) 回收率达到99%

(4) 混床反洗过程！