详细介绍
产品结构：
由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成 ,温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
S-1200G管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。
软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。
产品用途：
可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。
产品参数：
由管式炉+真空系统+供气系统+水冷系统组成 ,温度可以达到1200度,可以是单温区、双温区、三温区等,极限真空可以达到10-3Pa,供气系统是流量调节可以是质子流量计或浮子流量计,混气路数可以是2路、3路、4路、5路相混合。
S-1200G管式炉采用掺钼合金加热丝为加热元件,采用双层壳体结构和宇电控温仪表,能进行30段程序控温,移相触发、可控硅控制,炉膛采用日本进口氧化铝多晶纤维材料,具有温场均衡、表面温度低、节能等优点。
软件控制系统：该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。
产品用途：
可在片状或类似形状样品表面沉积SiOx、SiNx、非晶硅、微晶硅、纳米硅、SiC、类金刚石等多种薄膜,并可沉积p型、n型掺杂薄膜。沉积的薄膜具有良好的均匀性、致密性、粘附性、绝缘性。广泛应用于刀具、高精模具、硬质涂层、装饰等领域。
产品参数：
- 产品型号：S-1200PC
- 气路控制：浮子流量计/质量流量计
- 真空系统：旋片泵/扩散泵/分子泵
- 可选配件：水冷机/数显真空计
- 温度：1200℃(可定制)
- 工作温度：≤1100℃(可定制)
- 加热元件：合金加热丝
- 温控方式：智能化30段PID微电脑可编程控制
- 温控保护：具有超温及断偶报警功能
- 热电偶：K型
- 炉膛材质：高纯氧化铝多晶纤维
- 加热速率：0-20℃/分
- 恒温精度：±1℃
- 极限真空：6.0×10-5Pa
- 工作真空：7.6×10-4Pa
- 均匀性：±5℃
- 炉壳结构：双层壳体带风冷系统
- 额定功率：4Kw
- 供电电源：110-480V 50/60Hz
- 售后服务：12个月质保,终身保修(易损件除外)
