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半导体超纯水设备

半导体超纯水设备

半导体超纯水设备是半导体行业制造出高质量产品的关键设备,主要用于清洗、蚀刻、掺杂等关键环节。超纯水的纯度要求ji高,甚至达到了ppb(十亿分之一)级别。超纯水的制备一般可分为前级处理、反渗透(RO)、电渗去离子(EDI)、微过滤(MF)紫外线杀菌、超净过滤(UF)等阶段。

1.半导体超纯水设备的重要性

1.1半导体超纯水设备是半导体行业制造出高质量产品的关键设备。

1.2在半导体制造过程中,超纯水被用于清洗、蚀刻、掺杂等关键环节,其纯度要求ji高,甚至达到了ppb(十亿分之一)级别。

2.半导体超纯水设备的制备工艺2.1超纯水的制备一般可分为前级处理、反渗透(RO)、电渗去离子(EDI)、微过滤(MF)、紫外线杀菌、超净过滤(UF)等阶段。

2.2前级处理的作用是让原水(一般指城市自来水或地下水等)在进入多层介质过滤器(纯化膜组)之前,添加适量的化学试剂(例如次氯酸钠)以氧化有机物,与高分子聚合物产生凝聚作用,降低原水中的浑浊度及污染指数。

3.半导体超纯水设备的回收再利用3.1在半导体材料或集成电路工厂的超纯水系统中,采取水的回收再利用处理,可以降低生产运行成本。

3.2一般要使水的回收率达到70%以

上。