GPM-2-300光谱磨平机

1.无级调速控制2.下方配有吸尘装置,可吸走磨削物3.安全锁扣,1/4磨面,保护操作员适用于光谱研究的试样磨平

1.无级调速控制

2.下方配有吸尘装置,可吸走磨削物

3.安全锁扣,1/4磨面,保护操作员

适用于光谱研究的试样磨平。

在金相试样制备和光谱分析应用中,试样的磨平是金相制样和光谱分析前的重要工序。GPM-2-300型光谱磨平机整机采用喷塑工艺制作,双盘独立控制,磨盘无级调速,*罩壳设计可有效保障磨样安全,机箱内装有吸尘装置可避免环境污染,该机启动平稳、传动功率大、噪音低,可满足不同材料的制备要求,提高试样的磨抛质量和制备效率,是一种非常理想和功能完善的金相制样制备。

型号	GMP-2-300
磨盘直径	300mm
砂纸直径	300mm
转速	无级调速100~1400r/min 或四档速300, 600, 900, 1400 r/min
转向	顺时针或逆时针
电机功率	550W
显示及操作	数码管显示,薄膜按键操作,带吸尘装置
输入电源	单相220V, 50Hz, 10A
外形尺寸	820×440×940mm
净重	122kg