深圳市蓝星宇电子科技有限公司

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2021-07-13 20:20:57 424
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OxfordSystem100等离子刻蚀与沉积设备,是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。具有工艺灵活性,适用于化合物半导

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