要特点
智能PECVD设备是目前型的一款设备,将所有的控制部分集为一体,此款设备是我司在2013年获得的设备。高温真空加热炉温度控制系统采用经典的闭环负反馈控制系统,控温仪表选用智能型程序温度调节仪表控温,电力调制器控制；负载采用小电压大电流控制,从而大大提高了发热元件的寿命,测温元件采用K型热偶。采用单回路温控仪能够自整定PID 参数,无须操作人员的干预,可自行根据不同温度曲线的升、降温要求调整输出信号,同时系统设置了超温、欠温、断偶报警保护功能,大大降低了对操作人员经验的要求,关键电气元件采用优质的进口产品,做到高性能、免维护,提高了设备质量的可靠性。适用范围宽:金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,连续生长各种薄膜等。增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能。
1.薄膜沉积速率高：射频辉光技术,大大的提高了薄膜的沉积速率,沉积速率可达10Å/S；
2.大面积均匀性高：采用了的多点射频馈入技术,特殊气路分布和加热技术等,使得薄膜均匀性指标达到8%；
3.一致性高：用半导体行业的设计理念,使得一次沉积的各基片之间偏差低于2%；
4.工艺稳定性高：高度稳定的设备保证了工艺的连续和稳定；
5.号：ZL.0（产品,防伪必究）。
加热系统
Z高温度 |
1200℃（1 hour) |
使用温度 |
≤1100℃ |
炉膛有效尺寸 |
Φ60*1650mm（炉管直径可根据实际需要定制。） |
炉膛材料 |
氧化铝、高温纤维制品 |
热电偶类型 |
K型热电偶 |
控温精度 |
±1℃ |
控温方式 |
30段可编程控温,PID参数自整定, ‚操作界面为10"工控电脑,内置PLC控制程序, ƒ可将温控系统、滑轨炉滑动（时间和距离）设定为程序控制。 |
加热长度 |
200+200mm |
恒温长度 |
200mm |
加热原件 |
电阻丝 |
供电电源 |
单相,220V,50Hz |
额定功率 |
3KW |
PE射频电源
信号频率 |
13.56 MHz±0.005% |
功率输出范围 |
500W |
Z大反射功率 |
500W |
射频输出接口 |
50Ω, N-type, female |
功率稳定度 |
±0.1% |
谐波分量 |
≤-50dbc |
供电电压 |
单相交流（187V-253V）频率50/60HZ |
整机效率 |
>=70% |
功率因素 |
>=90% |
冷却方式 |
强制风冷 |
四路质子流量控制系统
外形尺寸 |
600x600x650mm |
连接头类型 |
双卡套不锈钢接头 |
标准量程（N2) |
50sccm,100sccm、200sccm；500sccm （可根据用户要求定制） |
准确度 |
±1.5% |
线性 |
±0.5～1.5% |
重复精度 |
±0.2% |
响应时间 |
气特性：1～4 Sec,电特性：10 Sec |
工作压差范围 |
0.1～0.5 MPa |
Z大压力 |
3MPa |
接口 |
Φ6,1/4'' |
显示 |
4位数字显示 |
工作环境温度 |
5~45高纯气体 |
压力真空表 |
－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格 |
截止阀 |
Φ6 |
内外双抛不锈钢管 |
Φ6 |
低真空机组VAU-02
空气相对湿度 |
≤85% |
工作环境 |
5℃～40℃ |
工作电电压 |
220V±10% 50~60HZ |
功率 |
1千瓦 |
抽气速率 |
10m³/h |
极限真空 |
5X10-1Pa |
工作压力范围 |
1.01325X105～1.33X10-2Pa |
耐压值 |
0.03MPa |
容油量 |
1.1L |
进气口口径 |
KF25 |
排气口口径 |
KF25 |
噪音 |
50dB |
外形尺寸 |
600×600×600mm |
连接方式 |
采用波纹管,手动挡板阀与波纹管相连 |
电阻真空计参数： |
|
配用规管： |
ZJ-52T电阻规, |
测量范围： |
10 5 ～10 -1 Pa, |
测量路数： |
1路 |
控制范围： |
5×10 3～5×10 -1 Pa, |
控制方式： |
继电器触点输出,负载能力AC220V/3A (或DC28V/3A)无感负载, |
电源： |
90-260V/50Hz或220V±10% 50Hz, |
功耗： |
20W |
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