产品特点:
1、面积大:0~Ø25毫米、0~Ø50毫米;
2、溅射样品表面膜层更均匀;
3、颗粒度更小(3nm左右);
4、溅射到样品表面能量低,对样品损伤小;(适用温度敏感性高的样品)
5、可以溅射各种固体靶材(如各种金属、陶瓷、碳等);
6、控制精度高,实验结果精准可控重复性高;
7、在同一真空腔内,可实现清洗和镀膜,降低污染样品造成的数据偏差 ;
8、加入特殊气体,可进行反应离子束刻蚀;
9、可实现的功能有:等离子清洗、镀膜等;
10、数字化自动控制系统。
产品特点:
1、面积大:0~Ø25毫米、0~Ø50毫米;
2、溅射样品表面膜层更均匀;
3、颗粒度更小(3nm左右);
4、溅射到样品表面能量低,对样品损伤小;(适用温度敏感性高的样品)
5、可以溅射各种固体靶材(如各种金属、陶瓷、碳等);
6、控制精度高,实验结果精准可控重复性高;
7、在同一真空腔内,可实现清洗和镀膜,降低污染样品造成的数据偏差 ;
8、加入特殊气体,可进行反应离子束刻蚀;
9、可实现的功能有:等离子清洗、镀膜等;
10、数字化自动控制系统。
*您想获取产品的资料:
个人信息: