特别适合于生产胶体溶液或极细的乳液和悬浮液。分散性能允许研磨分散机CK 2000用于连续过程中,在一次通过中为研磨颗粒提供狭窄分布范围。对于难度大的研磨任务,胶体磨可以通过管连接安装到带有工作容器的再循环回路中
特点:
A 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨
B 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
C 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
D 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
E 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求
研磨分散机 |
流量(l/h) |
转速(rpm) |
线速度(m/s) |
功率 (KW) |
进出口尺寸 |
CK2000/4 |
100 |
14000 |
44 |
4 |
DN25 / DN15 |
CK2000/5 |
500 |
10500 |
44 |
7.5 |
DN40 / DN32 |
CK 2000/10 |
1000 |
9000 |
47 |
11 |
DN50 /DN 50 |
CK2000/20 |
1500 |
9000 |
56 |
15 |
DN50 /DN 50 |
CK 2000/30 |
2,000 |
9000 |
61 |
22 |
DN65 /DN 50 |
CK 2000/50 |
2500 |
9000 |
63 |
30 |
DN65 / DN50 |
CK 2000/60 |
3000 |
9000 |
65 |
37 |
DN80 / DN65 |
CK 2000/70 |
4000 |
6000 |
56 |
55 |
DN80 / DN65 |
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到最允许量的10%