实验室CVD系统由供气系统+管式炉+抽气系统组成,实验室CVD系统采用常规管式炉配合相应的流量控制系统和配套真空泵实 现整套的气相沉积系统,加热可选 择1200℃、1400℃、1700℃各种温区管式炉,气体配置可选1路、2路、3路、5路浮子流量计或质量流量计,真空系统可以选择0.5-8升机械泵、扩散泵、分子泵机组。真空度可达10-5PA。洛阳西格马可生产四通道双温区cvd系统、炉膛可移动式CVD、PECVD系统设备。
CVD系统管式炉是一款小型化学气相沉积薄膜类制备设备,实验室CVD系统包括：供气系统集成、真空系统集成等。体现出体积小、操作方便、智能化程度高等特点。
炉膛可移动式CVD介绍：
炉膛可移动式CVD系统是一个特殊的双管CVD系统,是专门为在金属箔上生长薄膜而设计,特别是应用在新一代能源关于柔性金属箔电极方面的研究。通过滑动炉子可以实现物料的快速加热和冷却。
炉膛可移动式CVD技术参数：
CVD名称 |
1200℃双管滑道式CVD系统 |
| 电炉名称 | 炉膛可移动式双管管式炉 |
炉管尺寸 |
双石英管 外管：OD 100 x ID 96 x 1400 mm 内管：OD 80 x ID 75 x 1800 mm |
加热区 |
220+220mm |
供电电源 |
230V,单相,50HZ |
功率 |
4.0 kw |
加热元件 |
电阻丝 |
升温速率 |
0-20°C/min |
热电偶 |
K型 |
水冷系统 |
1.水冷机 CW-3000 2.水冷,密封双管的真空法兰：允许反应气体通过两管之间（10mm间隙）发生反应,冷却气体直接通入内管. |
真空系统 |
1. 防腐数显真空计 2. VRD-16旋片泵,抽速4L/S,含挡板阀 KF25接口,波纹管和箱体 |
双路流量计混气系统（可选质子流量计或浮子流量计） |
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CVD化学气相沉积系统质量流量控制器技术参数
名称 |
双通道 |
三通道 |
四通道 |
五通道 |
CVD化学气相沉积系统 |
工作温度：5~45ºC 重复精度: ±0.2%F.S. |
工作温度：5~45 ºC |
工作温度:5~45 ºC 重复精度: ±0.2%F.S. |
工作温度: 5~45 ºC |
输入电源 |
AC 220V/50Hz单相 |
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功率 |
23W |
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PLC触摸屏 |
CVD化学气相沉积多通道质量流量控制系统各通道的气路设定和查看都集中在触摸屏上 |
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机械压力表 |
有一机械压力表安装于前面板上,与混气罐相连接 量程:-0.1~0.15 MPa |
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针阀 |
316 不锈钢 |
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通气管道 |
内部连接管道为Φ不锈钢管 外部通气管道为Φ聚四氟管 |
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混气罐 |
Φ80X120mm |
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截止阀及配件 |
·316不锈钢针阀 Φ6mm 不锈钢管 |
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外形尺寸 |
600mm(L)x745mm(W)x700mm(H) |
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质量认证 |
CE认证 |
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质保期 |
一年质保期,终身维护 |
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