高纯电子化学品用5t/h高纯水设备

应用领域和指标要求参考

用途	用水指标	参考标准
超纯材料和超纯化学试剂 石英、硅材料生产、加工、提纯 电子半导体、集成电路板上用到的化工材料	电阻率15 ~18.25 MΩ.CM	我国电子级水质技术指标 美国半导体工业用纯水指标
普通化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程	电导率≤10μs/CM	饮用纯净水标准（GB17324-98）

主要工艺流程和出水指标：

※ 预处理+1级反渗透（电导率≤10μs/CM）

※ 预处理+二级反渗透（电导率≤2μs/CM）

※ 预处理+反渗透+离子交换器（电阻率≥15MΩ.CM）

※ 预处理+1级反渗透+EDI（电阻率≥15MΩ.CM）

• 预处理+二级反渗透+EDI +抛光混床（电阻率≥18.25MΩ.CM）

详细工艺需根据原水设计情况进行设计

纯水设备的主要特点

▼采用进口反渗透膜,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉,产水水质高而稳定；
▼在线水质监测控制,实时监测水质变化,保障水质；
▼全自动电控程序,还可选配触摸屏操作,使用方便,操作简单、方便；
▼切合当地水质的个性化设计,设想周到的堆叠式设计,占地面积小,满足需求。

▼与传统工艺相比具有运行成本低的优点（离子交换器的再生周期大大延长）,与工艺相比具有造价低,耗材易得的优点；

▼运行费用及维修成本低,全自动运行,实现无人化管理操作